sub_topVisual

¼®¡¤¹Ú»ç Àü¹®°¡ ±¸Àμº±Õ°ü´ëÇб³ ´ëÇпø ¼®¡¤¹Ú»ç Àü¹®°¡ ±¸ÀÎ °Ô½ÃÆÇ ÀÔ´Ï´Ù.

NO. ÇÐÀ§±¸ºÐ ä¿ë±â°ü ºÐ¾ß Á¦¸ñ ¸ðÁý±â°£(¸¶°¨ÀÏ) Á¶È¸
2398 ¼®¡¤¹Ú»ç ¢ß±¹¹ÎÀºÇà ±ÝÀ¶ÀÚ»ê°ü¸®»ç AIÀÚ»ê¿î¿ë ¸ðµ¨ °³¹ß Àü¹®Á÷¹«Á÷¿ø ä¿ë 2021.09.12 741
2397 ¼®¡¤¹Ú»ç ¢ßÆÄ³ë·Î½º¹ÙÀÌ¿À»çÀ̾𽺠¹ÙÀÌ¿À, »ý¸í°øÇÐ, ÀǾà, Á¦¾à, ¹ÙÀÌ¿À, Á¦¾à, ÀǾàǰ, ¼¼Æ÷¹è¾ç °¢ ºÎ¹®º° ä¿ë(½ÅÀÔ/°æ·Â) 2021.09.16 715
2396 ¼®¡¤¹Ú»ç ¢ßµð¿¡½º¿¡½º Àü±âÁ¦¾î, ÀüÀÚ, Firmware, Hardware, RF, ±â¼úÁö¿ø, ¼ö¸®, À¯Áöº¸¼ö, [±â¼úºÎ] RF Àü¿ø A/S Center °ü¸®ÀÚ±Þ 2021.11.28 730
2395 ¹Ú»ç Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿ø ´ëÇб³, Àü±â¡¤ÀüÀÚ KAIST Á¤º¸ÀüÀÚ¿¬±¸¼Ò Â÷¼¼´ë¿¡³ÊÁöº¯È¯¼ÒÀÚ(ÀÌÁ¤¿ë±³¼ö) ¿¬±¸½Ç ¿¬¼ö¿¬±¸¿ø(Post-Doc.) ¸ðÁý °ø°í 2021.09.13 726
2394 ¼®¡¤¹Ú»ç Èñ¼ºÃË¸Å¢ß Àüµ¿È­¼Ò°³¹ß, ÀÚµ¿Â÷ºÎǰ, ±â¼ú¿¬±¸¼Ò, ¿¬±¸°ü¸®, ¿¬±¸¿ø, R&D, ±â¼ú¿¬±¸¼Ò [Èñ¼ºÃ˸Å] °æ·Â»ç¿ø ä¿ë (R&D ºÎ¹®) 2021.09.05 852
2393 ¼®¡¤¹Ú»ç ¢ß¿ïÆ®¶óºêÀÌ ¹ÙÀÌ¿À, ÀÇ·á±â±â, È­Àåǰ, ±â¼ú¿¬±¸¼Ò, ¿¬±¸°ü¸®, ¿¬±¸¿ø, È­ÇÐ, R&D, ¹ÙÀÌ¿À °íºÐÀÚ ÇÊ·¯ ¿¬±¸°³¹ß ´ã´çÀÚ(°úÀå±Þ/¼®»çÀÌ»ó) ¸ðÁý 2021.11.28 625
2392 ¼®¡¤¹Ú»ç ¾Æµ¥ÄÚÄÚ¸®¾Æ °ü¸®È¸°è, ¼¼¹«, ¿ø°¡È¸°è, ȸ°è, ȸ°è°¨»ç, ÀÚ±Ý, ÀÚ±ÝÁ¶´Þ, À繫, À繫±âȹ, À繫ȸ°è [¸ÅÃâ1Á¶ ÀǾàǰ À¯Åë±â¾÷] À繫/ȸ°è ÆÀÀå ä¿ë(ºÎ»êor¼­¿ï) 2021.09.03 645
2391 ¼®¡¤¹Ú»ç ¢ßÀ̸¶Æ®¿¡ºê¸®µ¥ÀÌ ¸¶Æ®, ¹°·ù, À¯Åë, ÆÇ¸Å, ÇÒÀÎÁ¡, ±âȹ, ±âȹÁ¶»ç, º¯È­°ü¸®, Á¶Á÷°ü¸®, °ø¹«, ¹®¼­°ü Àλ米À° °æ·Â»ç¿ø ¸ðÁý 2021.09.05 656
2390 ¼®¡¤¹Ú»ç (Àç)Çѱ¹Àç³­¾ÈÀü±â¼ú¿ø ¿¬±¸¼Ò, ¿¬±¸¿ø, ¿¬±¸¿ø, R&D (Àç)Çѱ¹Àç³­¾ÈÀü±â¼ú¿ø ¿¬±¸¿ø(Ã¥ÀÓ/ÀüÀÓ/ÁÖÀÓ¿¬±¸¿ø) ¸ðÁý 2021.09.06 704
2389 ¹Ú»ç Å¥¾î¼¼¶óǻƽ½º °Ç°­, ¹ÙÀÌ¿À, º¸°Ç, »ý¸í°øÇÐ, ¹ÙÀÌ¿À, ¼¼Æ÷¹è¾ç, À¯Àü°øÇÐ Ç×¾Ï ¸é¿ª ¼¼Æ÷Ä¡·áÁ¦, ¹ÙÀÌ·¯½º º¤ÅÍ ¿¬±¸±âȹ ¹Ú»ç 2021.11.24 691
2388 ¼®¡¤¹Ú»ç Áø¿ø»ý¸í°úÇÐ¢ß »ý¸í°øÇÐ, ½ÇÇè, ¿¬±¸°ü¸®, ¿¬±¸¿ø, È­ÇÐ, R&D, ¹ÙÀÌ¿À, ÀÇ·á, Á¦¾à, ÀǾàǰ, ÀÓ»ó [¼®»ç, ¹Ú»ç] mRNA ¹é½Å ÀüÀÓ»ó ¿¬±¸¿ø Á¤±ÔÁ÷ ¸ðÁý 2021.09.25 679
2387 ¼®¡¤¹Ú»ç ¢ßÇ︯½º¹Ì½º °Ç°­, ¹ÙÀÌ¿À, »ý¸í°øÇÐ, ÀǾà, Á¦¾à, º¯È£»ç, ÁöÀûÀç»ê±Ç (ÁÖ)Ç︯½º¹Ì½º ÇØ¿Üº¯È£»ç ¸ðÁý 2021.09.12 670
2386 ¼®¡¤¹Ú»ç ÇÑÈ­ÄÄÆÄ¿îµå¢ß Àü±â¡¤ÀüÀÚ, ½Å¼ÒÀç°³¹ß, È­ÇС¤¼¶À¯ [R&D]Àü±â/ÀüÀÚ ¼ÒÀç °æ·ÂÁ÷ ¿¬±¸¿ø ä¿ë 2021.09.12 697
2385 ¼®¡¤¹Ú»ç ¿¤Áöµð½ºÇ÷¹ÀÌ ±â¼ú°³¹ß, Àåºñ°³¹ß, plasma, °øÁ¤°ü¸®, Á¦Á¶¡¤°øÁ¤ Áø°ø±â¼úºÐ¾ß ¹Ú»ç±Þ Plasma Àü¹®°¡ ä¿ë 2021.09.08 740
2384 ¼®¡¤¹Ú»ç ¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁîÄÚ¸®¾Æ¢ß È­ÇÐ, È­ÇÐ, R&D [¸ÓÅ©]Analytical Chemist (ÆòÅà R&D) ºÐ¼®È­ÇÐ, Chromatography/Spectroscopy 2021.11.22 762
top